Ta金属るつぼ

Ta金属るつぼ

Ta 金属るつぼは、タンタル (記号 Ta) で作られた容器を指し、元素のアイデンティティを強調しながら、超高純度の高温工業作業で要求されるのと同じ高性能機能を提供します。
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説明
技術的なパラメーター
Ta金属るつぼの特性

 

 

Ta金属るつぼタンタル (記号 Ta) で作られた容器を示し、元素の同一性を強調しながら、超高純度の高温の工業作業で要求されるのと同じ高性能機能を提供します。

本質的には同じタンタル金属るつぼ, Ta金属るつぼタンタルの比類のない耐火性と化学的安定性を活用します。省略された命名法は、技術仕様および製造図面で一般的です。純度の範囲は、一般用途の 99.9% から重要な用途の 99.99% までです。再結晶焼鈍による制御された結晶粒構造により、耐クリープ性と耐熱衝撃性が向上します。

 

属性
典型的な産業仕様
選定理由
材料の純度
99.9%以上のTa
溶融物の汚染を最小限に抑えます
連続使用最高温度
~2800度(不活性ガス)
高融点金属溶解物を扱います
肉厚
2~12mm
熱/機械的ストレスに適合
表面仕上げ
研磨済み(Ra0.8μm以下)
核の発生を防ぎ、洗浄を容易にします
 
Ta金属るつぼの代表的な用途

真空誘導溶解(VIM)– チタンとジルコニウムの合金を溶かし、窒素/酸素の侵入を防ぎます。
スパッタリングターゲットの製造– 半導体/光学コーティング用の高純度 Mo、W、Ta を含有。

積層造形粉末の製造– 3D プリンティングにおけるガスアトマイズ粉末用のプレアロイ溶融物の保持。

 

Ta金属るつぼの操作強度

元素の指定は、材料の性能への重点を強化します。Ta金属るつぼ自動化された鋳造/コーティングラインのロボットハンドリングと互換性があります。特に製品の純度が必須の場合、初期費用は高くなりますが、正しい動作条件下での寿命が長いため、コスト効率が高くなります。低い蒸気圧と高い熱伝導率により、航空宇宙、原子力、エレクトロニクス産業における大規模な生産バッチ全体で一貫した結果が保証されます。

 

ZhenAnを選ぶ理由

 

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