純タンタル金属るつぼ

純タンタル金属るつぼ

純粋なタンタル金属るつぼは、最も要求の厳しい高温工業プロセスにおいて汚染ゼロを保証するために不純物レベルが最小限に抑えられた超精製タンタル金属のみから製造された容器です。
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説明
技術的なパラメーター
タンタル金属るつぼの純度の定義

 

純タンタル金属るつぼは、最も要求の厳しい高温工業プロセスにおいて汚染ゼロを保証するために不純物レベルが最小限に抑えられた超精製タンタル金属のみから製造された容器です。

この文脈における「純粋」とは通常、タンタル含有量が 99.95% 以上であることを意味し、重要な用途では 99.98 ~ 99.99% に達することがよくあります。 Fe、Ni、Cr、O、N、C などの微量不純物は、二重真空アーク再溶解 (VAR)、電子ビーム溶解 (EBM)、ゾーンリファインなどのプロセスを通じて、わずか数 ppm に制限されます。この程度のタンタル金属純度は、るつぼ自体が処理される材料の化学的性質や微細構造を変えないことを保証します。

 

不純物
最大レベル (ppm) – 99.99% グレード
超過した場合の影響
5 以下
介在物の形成、合金強度の変化
3 以下
溶湯の耐食性の低下
O
5 以下
高温脆化
C
10以下
不要な炭化物の析出

純タンタル金属るつぼの産業上の役割

半導体結晶成長– SiC または GaN ブールの高純度溶融物の封じ込め。ppb レベルの汚染物質でもウェーハの品質が損なわれます。
核物質の取り扱い– 中性子吸収不純物を最小限に抑えたアクチニド合金の安全な溶解と鋳造。
レアアースの抽出– フッ化物/塩化物溶融物の電解または金属熱還元により、Nd、Dy、Tb の磁気性能を維持します。

このるつぼは、不活性雰囲気下で 2400 度を超える温度でも構造安定性を維持し、蒸気圧は無視でき、鉱酸や溶融酸化物に対する優れた耐性を備えています。

 

純タンタル金属るつぼの性能上の利点

非常に清浄な内面により、スプリアス相の核生成サイトが排除され、予測可能な凝固が可能になります。優れた耐クリープ性 (微細な再結晶粒による) により、2000 度で ~10 MPa の荷重が可能です。滑らかな仕上げ (Ra 0.4 µm 以下) により洗浄が容易になり、溶融付着が防止されるため、航空宇宙合金および電子材料工場の完全自動化された高スループット生産ラインに最適です。

 

Customized 99.95% Pure Melting Tantalum crucible from ZhenAn

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当社の製品の利点
高純度
純度レベルは 99.995% ~ 99.997% で、Pd や Cd などの不純物が非常に少ない。
優れたワイヤー品質
ワイヤーは連続した長さで均等にほどかれ、シームレスな操作が保証されます。
油残りのない滑らかな表面。
ワイヤ送給の問題なし
粒子、ワイヤのもつれ、結び目、曲がり、破損、酸化、スプレーアークの故障、ノズルの詰まりなどの欠陥がないこと。
無料のテストレポート
当社では、溶射層の厚さ、気孔率、接合強度、コンデンサおよび溶射亜鉛コーティングのコーティング試験に関する無料のテストレポートを提供しています。

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