説明
技術的なパラメーター
高純度タンタルスパッタリングターゲットは、お客様のご要望に応じてカスタマイズできます。
仕様
材質: R05200
純度: 99.95%以上、99.99%以上
サイズ: カスタマイズ
規格: ASTM B708-2012
用途: 光ファイバー、半導体ウェーハ、集積回路のスパッタリング蒸着コーティングに使用。ガラス、セラミック、LCDコーティングに使用。カソードスパッタリングコーティング、活性物質の高真空吸着などに使用。
タンタルターゲットの仕様
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アイテム |
手頃な価格の純粋なTAターゲットタンタルスパッタリングターゲット |
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材料 |
純粋なタンタルと合金 |
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密度 |
16.6G/cm3 |
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表面 |
磨かれた、明るい、転がる |
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形 |
丸い円盤、小さい円盤、大きい円盤 |
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最小注文数量 |
1個 |
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応用 |
工業、電子、医療 |
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