高純度タンタルスパッタリングターゲットサプライヤー

高純度タンタルスパッタリングターゲットサプライヤー

純度: 最低99.95%
密度: 16.65G/cm3
利点: 高密度
形状: 円形
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説明
技術的なパラメーター
当社のタンタルターゲットの特徴

 

高い化学純度
細粒
良好な再結晶性と三軸構造の一貫性
優れた可塑性
優れた耐酸性
高い融点と沸点
熱膨張係数が小さい
優れた水素吸収・放出性能

 

タンタルターゲットの関連仕様

 

機械的性質(焼鈍)

学年

(UNS)

引張強度最小

psi (MPa)

降伏強度最小

psi(MPa)(2%)

伸び最小、%

(ゲージ長さ1インチ)

 

(R05200, R05400)

30000 (207)

20000(138)

20

 

タ-10W(R05255)

70000 (482)

60000 (414)

15

 

Ta-2.5W(R05252)

40000 (276)

30000 (207)

20

 

タンタル-40ニオブ(R05240)

35000 (241)

20000 (138)

25

 

 

ジェナンのサービス

 

1. お客様のご要望に応じてカスタマイズし、有効な見積書を提供します。
2. 当社にはお客様のためのソリューションを設計する専門エンジニアがいます。
3. 当社のチームは、プロジェクト全体にわたって専門的なアドバイスとサポートを提供します。
4. 当社工場では、現地視察をいつでも歓迎しております。
5. 高品質のアフターサービスを保証します。

 

顧客訪問と社内環境

 

Pure ta metal sputtering target company

Pure Tantalum metal sputtering target company

Zhenan には専門の輸送チームがあり、十分な在庫とタイムリーな配送が可能です。金属についてご質問がある場合は、お問い合わせください。

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