説明

技術的なパラメーター

タンタルターゲットは、その優れた性能により、多くのハイテク分野で幅広く使用されています。以下では、エレクトロニクスおよび半導体産業、コーティングおよびフィルム用途、航空宇宙および医療機器におけるタンタルターゲットの具体的な用途について詳しく説明します。

A. エレクトロニクスおよび半導体産業

1. 集積回路（IC）製造におけるタンタルターゲット
タンタルターゲットは、集積回路 (IC) 製造における銅相互接続構造のバリア層を形成するために広く使用されています。

2. 磁気記憶装置におけるタンタルターゲット
タンタルターゲットは、ハードディスクドライブ (HDD) や磁気ランダムアクセスメモリ (MRAM) などの磁気ストレージデバイスでも重要な役割を果たします。

3. コーティングとフィルムの用途
タンタルターゲットは、PVD または CVD プロセスによって高密度のタンタルフィルムに形成され、金属基板を覆い、優れた保護特性を提供します。

4. 航空宇宙および医療機器
タンタルターゲットは、極めて高い温度と圧力の条件下で安定した性能を維持できる高温合金とコーティングを形成するために使用され、エンジンの効率と寿命を向上させます。

名前	金属タンタルTaマグネトロンスパッタリングターゲット
純度	99.9%-99.995%
サイズ	372x74x6mm、D3x3mm、D6x6mm、D50.8x3mm、2インチ、3インチ、リクエストに応じて
沸点	54257
密度	16.654g/cm³
融点	2996.0
形	平面ターゲット、回転ターゲット、アークカソード。