鋳造および鍛造タンタルターゲット

鋳造および鍛造タンタルターゲット

材質: タンタル
化学成分: Ta
製品名: 99.95% 99.99% タンタル金属 Ta 薄膜 PVD ​​コーティング材
主な用途: 半導体、フラットパネルディスプレイ、産業
表面: 研磨済み、光沢あり
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説明
技術的なパラメーター
タンタルターゲットの準備プロセス

 

主に、以下のものが含まれます。①ターゲットブランクの製造。鋳造、鍛造、粉末成形の2つの方法に分かれています。溶解、鋳造、鍛造は、湿式冶金によって鉱石から得られたタンタル粉末であり、次に電子製錬または電気アーク炉製錬を使用して静水圧プレスおよび焼結して、純度要件を満たすタンタルインゴットを準備し、最後に常温または加熱鍛造、圧延、押し出しなどの変形処理を経て得られます。特定の内部構造を持つタンタルターゲットブランク、粉末成形は、湿式冶金法で得られたタンタル粉末を直接静水圧プレスおよび焼結して製造されたタンタルターゲットブランクです。②バックプレーンボンディング。バインディングとも呼ばれます。拡散溶接とろう付けの2種類に分かれています。拡散溶接は通常、熱間静水圧プレスによって実現され、ろう付けは通常、インジウムろう付けによって行われます。

 

タンタルターゲットの関連コンポーネント

 

ブランド

化学組成 ≯%

W

ティ

いいえ

O

C

H

N

タ1

マトリックス

0.005

0.005

0.005

0.005

0.002

0.002

0.050

0.02

0.004

0.002

0.005

タ2

マトリックス

0.005

0.005

0.005

0.005

0.002

0.002

0.1

0.03

0.010

0.002

0.010

 

よくある質問 私たちについて

 

Q: 貴社は商社ですか、それとも製造会社ですか?

A: 当社は工場です。

 

Q: 支払い条件は何ですか?

A: お支払い<=1000USD, 100% in advance. Payment>=1000USD、30% T/T前払い、残りは発送前。

 

Q: 製品はサンプル/カスタム サービスをサポートしていますか?

A: 購入数量が指定数量に達した場合、サンプルサービスとカスタマイズサービスを提供します。

 

Q:どのような金属材料が必要か分かりません。

A: 材質の用途についてお知らせいただければ、材質の特性に応じて参考となる提案をさせていただきます。

 

顧客訪問と社内環境

 

Pure ta metal sputtering target supplier

Pure Tantalum metal sputtering target supplier

当社の工場は専門的で信頼性が高く、一生懸命働き、お客様を辛抱強く扱い、お客様が安心でき、思いやりがあり、心配のない新しいサービスを実際に体験できるようにしています。

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