説明
技術的なパラメーター
Zhenan Tantalターゲットの基本的な準備プロセス
の準備プロセスタンタルターゲット主に次の手順が含まれています。
粉末冶金：ナトリウム熱還元方法は、高純度のタンタル粉末を生成するために使用され、粒子サイズは2〜3ミクロンで制御されます。
寒冷等積みの押し：タンタル粉末はラテックスパッケージで等等型で密集しており、圧力は200MPaを超える必要があり、保持時間は20分を超えています。
焼結：焼結は、1×10^-2 MPAを超える真空条件の下で行われ、温度は2400度を超え、保持時間は1.5時間を超えます。
ローリングおよび熱処理：焼結タンタルムビレットを転がし、熱処理して、目的の形状と特性を得る。
さらに、メルト鋳造、ホットアイソスタティックプレス（股関節）プロセスなど、タンタルターゲットの密度と均一性を大幅に改善できる他の準備プロセスがあります。
Zhenan High Purity Tantalumターゲット製品の詳細パラメーターテーブル
| 材料 | TAターゲット |
| 純度 | 99.9%-99.99% |
| サイズ | 直径1 "、" 2 "、3"、4 "またはカスタマイズ |
| 相対密度 | 99％以上 |
| 形 | 丸い、長方形、顆粒、またはカスタマイズ |
| ボンディング | インジウム、エラストマー |
Zhenanラウンドタンタルターゲット製品サンプルディスプレイ画像
純粋なTAスパッタリングターゲット
純粋なタンタルターゲット
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ZhenanについてのFAQ
Q：どのような金属材料が必要かわからない？
A：材料の使用について教えてください。さまざまな材料の特性に従って、参考文献を提供します。
Q：テストレポートを提供していますか？
A：はい、サードパーティのテストレポートを提供します。第三者が指定されている場合、追加料金が請求されます。
Q：どのような支払い方法が受け入れられますか？
A：次の支払い方法を受け入れます：T/T、L/C、D/A、D/P、Western Union、MoneyGramなど。その他の支払い方法は交渉できます。