ジルコニウムターゲット材料の準備プロセス
の準備プロセスジルコニウムターゲット材料には、主に原料の準備、ターゲットブランクの準備、焼結、ターゲット材料への加工、表面処理が含まれます。
raw材料の準備:
主な原料は、純粋なジルコニウム粉末またはジルコニウム合金粉末です。一般的なジルコニウム合金には、ジルコニウム - ハフニウム合金、ジルコニウム - ニオビウム合金などが含まれます。これらの合金には、熱の安定性と機械的特性が向上しています。
ターゲット空白の準備:
合金粉末を使用する場合は、ジルコニウム粉末と合金粉末をさまざまな割合で均等に混合する必要があります。通常、混合にボールミルまたは振動ミキサーを使用してください。
均等に混合された粉末は、押した機械によって空白に押し込まれます。一般的に使用される形成方法には、寒冷等吸着性のプレスと高温等吸着性のプレスが含まれます。
sintinging:
プレスされた空白は、通常は高温の等吸着性を押すことにより、高温で焼結されます。焼結温度と時間は、通常1500度を超える特定の材料とプロセスの要件に従って調整する必要があります。焼結プロセス中に、酸化と汚染を避けるために大気を制御する必要があります。
ターゲットマテリアルへの処理::
焼結された空白は、ターン、フライス、粉砕、研削などの機械的処理方法により、ディスクなどの目的のターゲット形状に処理されます。高精度処理装置を使用して、ターゲット材料の寸法精度と表面品質を確保します。
サーフェストリートメント:
加工されたターゲット材料は、表面仕上げと均一性を改善するために、研磨や化学研磨などの表面処理を受けます。超音波洗浄や化学物質の洗浄などの方法を使用して、表面の不純物を除去します。
ジルコニウムターゲットの基本パラメーター標準
| 製品名 | ジルコニウム(ZR)スパッタリングターゲット |
| 純度 | 99.5%~99.95% |
| 形 | ディスク、プレート、列ターゲット、チューブターゲット、カスタムメイド |
| 寸法 | 丸いスパッタリングターゲット: 直径:<18", Thickness: >0.04" 長方形のスパッタリングターゲット: 長さ:<36", Width: <12", Thickness: >0.04" |
| ボンディング | インジウム |
Zhenan Zirconiumターゲット製品の詳細画像ディスプレイ


私たちの利点:
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私たちについてのFAQ
Q:見積もりを取得したい場合は、どのような情報をお知らせしますか?
A:必要な材料寸法(厚さ*幅*長さ、直径*長さ。可能であれば、図面を親切に提供してください)。
表面条件、耐性要求、数量、その他の機械的および技術的な詳細など、必要な情報が必要です。
可能であれば、製品の適用も提供してください。確認のために詳細を含む最も適切な製品をお勧めします。
Q:製品の品質をどのようにしていますか?
A:生産および完成品の各ステップは、倉庫に保管する前にQC部門による検査を実施します。 NG商品は、完成した商品倉庫では許可されていません。









