ジルコニウムターゲットの役割
ジルコニウムターゲット半導体プロセスにおいて以下の役割を果たします。
1. 金属膜の製造：ジルコニウムターゲットは、マグネトロンスパッタリングなどの技術によって金属膜を生成するために使用され、集積回路やその他の半導体デバイスの製造プロセスで非常に重要です。
2. フィルム性能の向上：ジルコニウムターゲットを堆積材料として使用すると、硬度、接着性、化学的安定性などのフィルムの特性が向上します。
3. 膜組成の調整：ジルコニウムターゲットは、膜の化学組成、厚さ、形態を制御して、さまざまな半導体デバイスの要件を満たすことができます。
ジルコニウムターゲットの基本パラメータ
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製品名 |
ジルコニウムターゲット |
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密度 |
6.508/CM3 |
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融点 |
1852 度 |
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仕様 |
1''、2''ご要望に応じて |
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形 |
長方形、円形、ロータリー、ペレット、インゴット |
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最小注文数量 |
1個 |
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応用 |
真空コーティング、プロセス、 装飾、LED、セミ |
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パッケージ |
木製ケース |
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納期 |
7-20 日 |
なぜ当社を選ぶのでしょうか?
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製品はIS09001品質管理システム認証を取得しています
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