カスタマイズされたジルコニウムターゲット

定義とアプリケーション：

ジルコニウムターゲット特定の準備プロセスによって作成され、ジルコニウム薄膜の堆積をスパッタリングするために使用されます。
これは、主に、MOSFETデバイスのゲート電極や金属相互接続層の準備、オプトエレクトロニクスフィールドの電子ビーム蒸発器用のカソードと光学コーティングなど、電子産業のスパッタリングプロセスで主に使用されています。

 

 

分子量	91.22
外観	灰色の金属
融点	1852年の学位
沸点	3580度
密度	6506 kg/m3
H2Oの溶解度	N/A
ポアソンの比率	0.34
ヤングモジュラス	88 GPA

 

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