タングステンターゲットの主な用途
主な用途タングステンターゲット電子デバイス製造、真空コーティング、破砕中性子源、半導体製造および複数の産業分野をカバーする広範囲にわたる。
電子デバイス製造: タングステンターゲットは、高純度で高密度であるため、電子管、トランジスタ、集積回路などの電子デバイスの製造に広く使用されています。これらの特性により、電子機器の性能の安定性と信頼性が保証されます。
vacuumコーティング：真空コーティング技術では、タングステンのターゲットが蒸発源として使用され、さまざまな薄膜材料を製造しています。その高硬度と高温抵抗は、薄膜材料の性能の安定性と信頼性を保証し、タングステンのターゲットをこの分野で重要な位置にします。
spallation Neutron source ：タングステンターゲットは、スポレーション中性子ソースで重要な役割を果たします。
タングステンターゲットの基本パラメータ
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温度抵抗係数 |
0.00482 I/度 |
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弾性率 |
35000〜38000 MPa（ワイヤー） |
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ねじり弾性率 |
~36000Mpa |
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圧縮率 |
2。910-7 cm/kg |
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表面状態 |
ポリッシュまたはアルカリ洗浄 |
Zhenan Tungstenターゲット製品の写真ディスプレイ
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ZhenAnについてのよくある質問
1.先回の価格を変更しておくことができますか？
商品の価格は原材料の価格により変動し、上がる場合もあれば下がる場合もございます。変動が大きい場合でも、お客様にとって最良の価格を維持できるよう最善を尽くします。
2。主にどの製品を供給していますか？
主にタングステン、モリブデン、ジルコニウム、タンタル、ニオビウム、およびその合金製品を供給しています。
3.あなたの会社の品質管理は何ですか？
当社はISO 9001:2015認証を取得しており、出荷前に品質管理部門による厳密な検査が必要です。