高純度タングステンスパッタリングターゲット

高純度タングステンスパッタリングターゲット

化学組成: W
有効純度(%): 99.95 (3N5)
融点: 3407℃
密度 (g/CM3): 19.35
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説明
技術的なパラメーター
タングステンターゲットの基本パラメータ

 

1. 純粋さ
タングステンターゲットの純度は通常99.95%以上です。純度はターゲット材料の性能に影響を与える重要な要素です。特に半導体製造や高精度の科学実験において、材料の均一性と塗布性能が決まります。

2. 結晶構造
タングステンターゲットの結晶構造は通常、体心立方(BCC)構造です。結晶サイズは、さまざまな用途の要件を満たすために、調製プロセス中の温度と圧力条件によって調整できます。

3. 熱伝導率
タングステンの熱伝導率は約173W/(m・K)である。高い熱伝導率により、高温用途でもタングステンターゲットの安定性が維持され、熱の迅速な放散が促進され、過熱による性能低下が防止されます。

4. 電気伝導率
タングステンの電気伝導率は約18.3×10^6 S/mです。この特性により、タングステンターゲットは電子ビームやX線の用途で優れた性能を発揮します。これは、優れた導電性が熱損失を低減し、エネルギー変換効率を向上させるのに役立つためです。

5. 磁気
タングステン自体は非強磁性ですが、特定の条件下では弱い磁性を示すことがあります。この特性は、磁性材料および磁気デバイスの新しい用途の研究において潜在的な価値を持っています。

6. 熱膨張係数
タングステンの熱膨張係数は室温で約 4.5×10^-6 K^-1 です。これは、温度変化によるタングステンの寸法変化が比較的小さいことを示しており、これが温度変化の大きい環境下でも構造と性能の安定性を維持するのに役立っています。

7. 引張強さと硬さ
タングステンの引張強さは 1000 ~ 3000 MPa で、硬度は 2000 ~ 4000 HV に達することがあります。この高い強度と硬度により、タングステン ターゲットは物理的衝撃や摩耗のある環境において優れた耐久性を発揮します。

 

タングステンターゲット材料の関連パラメータ

 

製品名

タングステンラウンドターゲット

起源

中国

ブランド

マトベイ

型番

W1

応用

業界

化学組成

W

 

タングステンターゲットの製品写真

 

Tungsten Sputtering Target
w金属スパッタリングターゲット会社
Round Metal W Tungsten Target
ピュアWメタルスパッタリングターゲット会社
私たちの利点:

 

1.一流の技術と厳しい仕事姿勢

2.製造プロセス中に発生するあらゆる種類の問題を解決する専門チーム

3.繰り返し注文でも購入コストが安い

4.優れた顧客サービス

 

顧客訪問と社内環境

 

High Purity Tungsten Sputtering Target company

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ZhenAnについてのよくある質問

 

1.単価を前回と変えてもらえませんか?

商品の価格は原材料の価格により変動し、上がる場合もあれば下がる場合もございます。変動が大きい場合でも、お客様にとって最良の価格を維持できるよう最善を尽くします。

2. 主にどのような製品を供給していますか?

当社は主にタングステン、モリブデン、ジルコニウム、タンタル、ニオブおよびそれらの合金製品を供給しています。

3. あなたの会社の品質管理はどうなっていますか?

当社はISO 9001:2015認証を取得しており、出荷前に品質管理部門による厳密な検査が必要です。

4. どのようなサービスを提供できますか?

受け入れられる配送条件: FOB、CFR、CIF、EXW、FAS、CIP、FCA、速達。

受け入れられる支払い方法: T/T、L/C、PayPal。

6. 私のデザインで商品を作ってもらえますか?

はい、可能です。カスタマイズされたサービスを提供します。必要な情報をすべてお送りいただければ、詳細なお見積りを提出させていただきます。

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