真空中のニオブるつぼ

真空中のニオブるつぼ

アプリケーション: 産業用
化学式:Nb
分類 : 蒸着材料
グレード標準 : 工業用グレード
認証:ISO
蒸発器ソース : E
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説明
技術的なパラメーター
蒸発るつぼニオブNb価値価格工場カスタマイズ

 

直径(mm)

厚さ(mm)

高さ(mm)

表面仕上げ

内面仕上げ

内底仕上げ

30-50

2-10

200以下

Ra2.0以下

Ra2.4以下

Ra2.8以下

50-100

3-15

300以下

Ra2.0以下

Ra2.4以下

Ra2.8以下

100-150

3-15

350以下

Ra2.0以下

Ra2.4以下

Ra2.8以下

150-200

5-20

400以下

Ra2.0以下

Ra2.4以下

Ra2.8以下

200-300

8-25

500以下

Ra2.0以下

Ra2.4以下

Ra2.8以下

300-400

8-30

600以下

Ra2.0以下

Ra2.4以下

Ra2.8以下

400-450

8-30

650以下

Ra2.0以下

Ra2.4以下

Ra2.8以下

450-600

8-35

800以下

Ra2.0以下

Ra2.4以下

Ra2.8以下

 

真空環境でニオブるつぼを使用する利点は何ですか?

 

真空環境におけるニオブるつぼにはいくつかの明確な利点があり、特殊な科学および産業用途に非常に適しています。
最小限のガス放出: 主な利点の 1 つは、低ガス放出特性です。真空中では、どのような物質でも閉じ込められたガスが放出される可能性があり、それが環境を汚染し、実験結果に影響を与える可能性があります。ニオブは蒸気圧が非常に低いため、高温でもごくわずかな量のガスを放出します。これにより、クリーンな真空環境が確保されます。これは、- 薄膜の堆積、電子顕微鏡検査、表面科学の研究などのプロセスにとって非常に重要です。
高い - 温度安定性: ニオブは、構造の完全性を失うことなく、非常に高い温度に耐えることができます。熱放散が主に放射によって起こる真空では、高温に耐えるるつぼの能力が不可欠です。高温での金属の溶解や蒸発などのプロセスに使用できます。これらのプロセスは、材料科学の研究や高純度の - 材料の製造で一般的です。
化学的不活性性: るつぼは真空中では化学的に不活性なままです。真空チャンバー内に存在する残留ガスや処理中の材料とは反応しません。これは、特に高純度の - 金属、合金、半導体の合成などの用途において、取り扱う材料の純度を維持するために不可欠です。
耐熱衝撃性:ニオブは耐熱衝撃性に優れています。真空環境では、加熱素子の起動時 - および停止時 - 中に急激な温度変化が発生する可能性があります。るつぼは、亀裂や劣化を起こすことなくこれらの急激な温度変化に耐えることができるため、- の長期間の使用が保証されます。
真空装置との互換性: ニオブるつぼは幅広い真空装置と互換性があります。これらは、真空炉、電子ビーム溶解システム、その他の真空 - ベースの処理ユニットに簡単に統合できるため、さまざまな研究や産業用途に多用途に使用できます。

 

 
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