ニオビウムターゲットの単純な準備プロセスの紹介
主な方法：真空電子ビーム（EB）融解、熱い圧迫焼き、および静的なプレスニオビウムターゲットパウダー冶金による。
Key Technologies：アニーリング治療（1〜2Hの250〜400度断熱材）、ニオブターゲットの平坦性を制御するローリングプロセス（<0.2mm).
ニオビウムターゲット製品の詳細パラメーターテーブル
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製品名
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ニオビウムディスク
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サイズ
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カスタマイズ
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基準
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ASTM B 393-05
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注記
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引用は参照用です。特定の価格は、材料とサイズと量に関連しています。カスタマーサービスの見積もりを参照してください
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ニオビウムターゲット製品の詳細画像ディスプレイ
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ZhenanについてのFAQ
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Q3：蒸発材料の検査手順はありますか？
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Q4：蒸発材を選択したときに何を考えますか？
A：必要なアプリケーションとアプリケーション効果。
Q5：蒸発材料サプライヤーを選んだときに何を考えますか？
A：専門家および経験豊富なメーカー、安定した品質管理、効率的なサービス。
Q6：注文する前にあなたの会社と工場にアクセスできますか？
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