説明
技術的なパラメーター
半導体および材料科学におけるニオビウムターゲットの適用
半導体産業：統合回路製造の過程で、ニオビウムターゲット高解像度のフォトリソグラフィマスクの製造の重要なステップで広く使用されており、融点が高く蒸発速度が低いため、チップ製造が行われます。
材料科学：イオン移植技術では、ニオビウムターゲットを使用して、材料の電気特性を改善するためにドーパントを注入します。また、原子炉用の燃料集合体の製造など、原子力産業でも使用されており、高温や放射線耐性に理想的な材料です。
ニオビウムターゲット製品の詳細パラメーターテーブル
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金属名
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ニオブ
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化学記号
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NB
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カテゴリ
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遷移金属要素
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外観
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グレーホワイト
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融点
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2468度
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沸点
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4742度
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密度
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8.57 g/cm³
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ニオビウムターゲット製品の詳細画像ディスプレイ
純粋なニオビウム金属スパッタリングターゲットサプライヤー
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ZhenanについてのFAQ
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Q：配達時間はどのくらいですか？
A：私たちの毎日の在庫は8000トンを超えるため、一般的な製品サイズの場合は、在庫から5日間だけ必要です。新しい生産の特別なサイズの場合、7日間配達。
Q：製品の品質をどのようにしていますか？
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