金属ニッケルターゲット

金属ニッケルターゲット

純度: 99.95%
納期: 15-18日
表面: 磨かれて明るい
認証: ISO9001:2015
最小注文数量: 1 個
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説明
技術的なパラメーター
Zhenanニッケルターゲット材料の紹介

 

ニッケルターゲット材料は、薄膜の作製に使用される材料であり、通常、化学蒸着、物理蒸着などの技術によって薄膜が作成されます。ニッケルターゲット材は主に高純度の金属ニッケルで構成されており、その純度は一般に99.995%以上が要求されます。

ニッケルターゲット材料は、エレクトロニクス産業において幅広い用途があります。薄膜記憶装置、走査型電子顕微鏡プローブ、MRAM磁気ランダムアクセスメモリ、その他のコンポーネントを製造するための金属蒸発源として使用できます。半導体デバイスや太陽電池の製造用の低抵抗コンタクト材料としても使用できます。

1. ニッケルターゲット材料の調製プロセス: ニッケルターゲット材料の調製では、材料の純度および結晶構造の完全性を維持する必要があるため、一般に真空冶金および化学蒸着が使用されます。一般的には真空冶金や化学気相成長といった高難易度のプロセスが用いられます。製造プロセスでは、温度、雰囲気、圧力などの要素を厳密に管理する必要があります。

2. ニッケルターゲット材料の特性と特性: ニッケルターゲット材料は、その優れた導電性、化学的安定性、耐熱性により広く使用されています。さらに、ニッケルターゲット材料は優れた熱膨張係数と磁気特性も備えており、磁性薄膜の作製において重要な役割を果たします。

3. ニッケルターゲットの保管: ニッケルターゲットは酸素、水、その他の化学物質に弱いため、使用前に乾燥した換気の良い環境に保管する必要があり、汚染や酸化を防ぐために適切な梱包措置を講じる必要があります。

 

ニッケルスパッタリングターゲット製品パラメータ

 

純度: 99.9%-99.95%
サイズ: カスタマイズされた
形: 平面および回転
テクノロジー: 真空溶解
応用: バリア層または接着層を堆積する半導体分野
パッキング: 真空密閉、木製ケース

 

ニッケルスパッタリングターゲットの製品展示

 

9995 Nickel Alloy Target
ニッケルターゲット
9999 Pure Nickel Sputtering Target
ニッケル金属ターゲット
私たちの利点

 

1. 強力な研究開発力

2. 金属製品の研究開発と生産における30年以上の経験

3. 国有企業、良好な信用、強固な財務力

4. 各種高融点金属・レアメタルのワンストップサービス

5.専門の販売チーム、心のこもったサービス。

 

お客様訪問と社内環境写真

 

High Purity Nickel Sputtering Targets

Nickel Sputtering Target

ZhenAnについてのよくある質問

 

Q1: サンプルはどうやって入手できますか?

A1: 最初の注文を受け取る前に、サンプルと速達の費用をご負担ください。

Q2:配送方法は?

A2: 弊社では万全の物流サービス体制を整えております。

Q3: 製品はサンプル/カスタム サービスをサポートしていますか?

A3: 購入が指定された数量に達した場合、サンプルサービスとカスタマイズされたサービスを提供します。

Q4:割引はありますか?

A4: はい、状況に応じて毎月クーポンや割引を発行させていただきます。ご興味がございましたら、ご注文時にクーポンを入手できるチャンネルをご提供いたします。

Q5: 金属材料のブランドと種類はどのように選べばよいですか?

A5: ほとんどの製品詳細ページでは、さまざまなブランドの素材のさまざまな用途が表形式で説明されています。他に問題がある場合は、さらに詳しく話し合うことができます。

Q6:どのような金属材料が必要かわかりませんか?

A6: 材料の使用について教えてください。さまざまな材料の特性に応じて参考提案を提供します。

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