ニオブターゲットの詳細な紹介

ニオブターゲット純金属ニオブで作られたターゲットで、主に物理蒸着プロセスにおける材料堆積、膜成長、プラズマ蒸着（PECVD）に使用され、膜の品質と膜厚の均一性を向上させます。同時に、ニオブターゲットは他の電子部品や半導体デバイスの製造にも使用できます。

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純nbメタルスパッタリングターゲット

純ニオブ金属スパッタリングターゲット