タンタルプレート生産プロセス
原材料の準備：原材料として高純度のタンタルを選択して、原材料の純度と品質が生産要件を満たすようにします。
鍛造加工：タンタルの原料は、ハンマーとスタンピングによって、鍛造され、平らなビレットまたは中程度の大きさのビレットに加工されます。このステップは、タンタルインゴットの粗い粒子構造を破壊して、後続の処理を促進することです。
熱処理：鍛造後、ビレットは通常、その構造と性能をさらに改善するために熱処理する必要があります。ただし、タンタルと酸素との活性反応により、タンタル表面の酸化を防ぐために、熱処理を高い真空で実行する必要があります。
コールド処理：熱処理されたスラブから、コールドローリングが実行されます。一般に、2ローリングミルまたは4ローリングミルを使用して、スラブを必要な厚さのタンタルプレートに丸めます。ローリングプロセス中に、表面上の酸化物の形成を防ぐために、室温または室温近くに実行する必要があります。同時に、タンタルは非常に柔らかいため、加工や輸送中の傷を防ぐように注意する必要があります。
アニーリング治療：ほとんどすべての厚いプレートが真空でアニールされています。アニーリング治療は、処理中に残留ストレスを排除し、の可塑性と靭性を改善することができますタンタルプレート。相変化がないため、加熱と冷却の速度は重要ではありません。
Tantalum Plate Basicパラメーターテーブル
|
厚さ |
許容される厚さ 偏差 |
許容される厚さ 偏差 |
幅 |
許容幅偏差 |
長さ |
許容長さの偏差 |
|
0.025~0.07 |
±0.005 |
±0.006 |
70~150 |
±2.0 |
1000以上 |
- |
|
>0.07~0.09 |
±0.006 |
±0.008 |
70~150 |
±2.0 |
1000以上 |
- |
|
0.1~0.20 |
±0.015 |
±0.02 |
50~300 |
±2.0 |
100~2000 |
±3.0 |
|
>0.2~0.30 |
±0.02 |
±0.03 |
50~300 |
±2.0 |
100~2000 |
±3.0 |
|
>0.30~0.50 |
±0.03 |
±0.04 |
50~500 |
±2.0 |
100~2000 |
±3.0 |
|
>0.50~0.80 |
±0.04 |
±0.06 |
50~500 |
±2.0 |
50~1200 |
±3.0 |
|
>0.80~1.0 |
±0.06 |
±0.08 |
50~500 |
±2.0 |
50~1200 |
±3.0 |
|
>1.0~1.5 |
±0.08 |
±0.10 |
50~500 |
±3.0 |
50~1200 |
±4.0 |
|
>1.5~2.0 |
±0.12 |
±0.14 |
50~500 |
±3.0 |
50~1200 |
±4.0 |
|
>2.0~3.0 |
±0.16 |
±0.18 |
50~500 |
±5.0 |
50~1200 |
±5.0 |
|
>3.0~4.0 |
±0.18 |
±0.20 |
50~500 |
±5.0 |
50~1200 |
±5.0 |
|
>4.0~6.0 |
±0.12 |
±0.24 |
50~500 |
±5.0 |
50~1200 |
±5.0 |
|
>6.0~30.0 |
±0.24 |
±0.50 |
50~500 |
±5 |
50~1200 |
±5.0 |
Zhenan Tantalumワイヤー製品の詳細
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