タンタル溶解用るつぼ

タンタル溶解用るつぼ

高純度タンタルるつぼは純度 99.99% 以上で定義され、微量汚染物質を排除して超敏感材料処理の厳しい要求に応えます。-
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説明
技術的なパラメーター
タンタル溶解用るつぼにおける溶融物質との適合性

 

溶解用のタンタルるつぼは、タンタルの高い融点と非湿潤特性を利用して、金属、合金、セラミックの厳しい液化に耐えるように設計されています。{0}}

 

Tantalum resists wetting by most molten metals (Al, Cu, Ni, Fe) and ceramics (SiO₂, ZrO₂), preventing adhesion and enabling easy retrieval of molten contents. Exceptions include alkali metals (Li, Na) and certain molten salts (e.g., KCl-NaCl eutectic), which may react at >800度。互換性マトリックスが選択のガイドとなります。

 

溶融した材料
最大。安全温度 (度)
反応リスク
タンタルるつぼへの適合性
アルミニウム(Al)
1300
低い
素晴らしい
銅(Cu)
1400
低い
素晴らしい
ニッケル(Ni)
1500
低い
素晴らしい
リチウム(Li)
500
高い
不適切
シリカ(SiO₂)
1700
なし
ガラス溶解に最適

 

最も人気のある高温加熱るつぼ

 

溶融に最適化された設計機能

るつぼは溶解効率に合わせて調整されています。
肉厚: 2–10 mm (thicker walls for >2500度で溶けます。軽量で持ち運びが容易なため、より薄くなります)。
形: 円筒形 (バッチ溶解用)、円錐形 (注入用)、またはカスタム (例: 熱損失を減らすための蓋付き)。

表面仕上げ: 溶融金属凝固のための核生成サイトを最小限に抑えるために研磨済み (Ra < 0.8 µm)。

 

工業用溶解の使用例

航空宇宙用超合金の製造: タービンブレード用の溶融インコネル 718 (融点 1336 度)。るつぼの純度により介在物欠陥が防止されます。
ガラス製造:ホウケイ酸ガラス(融点~1500度)をシリカと反応させずに溶かし、ガラスの透明度を確保します。
貴金属のリサイクル: Melting platinum group metals (PGMs, melting points >1700 度)るつぼ反応で材料を失うことなく、収率を最大化します。

 

Evaporation material 99.95% 3N5 tantalum crucible for electron beam evaporator
電子ビーム蒸着器用蒸着材料 99.95% 3N5 タンタルるつぼ
Tantalum Parts Processing Plant Customized Different Size Bright Grey tantalum Crucible For Melting Process Parts
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カスタマイズされた R05200 Ta 99.95% 純粋な研磨タンタルるつぼタンタルカーバイド 1 kg あたりの価格