Taタンタルるつぼ高純度

純度 99.9%、外径 10 mm のタンタルるつぼは、スペースの制約と正確な注入が重要となる小規模な工業用溶解、サンプリング、または反応性金属の取り扱い向けに設計されたコンパクトで堅牢な容器です。

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説明

技術的なパラメーター

タンタルるつぼの高純度の定義

高純度タンタルるつぼは、不純物レベルを百万分の 1 まで最小限に抑えた精製タンタルから製造されており、材料の完全性が性能と歩留まりを左右する工業プロセスに汚染のない封じ込めを提供します。{0}{1}{2}

高純度は通常 99.95% のタンタルから始まり、高級グレードは 99.99% 以上に達します。不純物管理は、トリプル溶解プロセス (真空アーク再溶解 + 電子ビーム溶解 + ゾーン精製) により、Fe、Ni、Cr、O、N、C を非常に低い ppm 値に制限することに重点を置いています。{3}}これにより、高温処理中にるつぼが溶融金属、特殊合金、またはセラミックに異物元素を導入することがなくなります。-

不純物	標準最大値 (ppm) – 99.99% グレード	超過した場合の影響
鉄	5 以下	合金の化学的性質を変化させ、介在物を引き起こす
ニ	3 以下	溶湯の耐食性を低下させる
O	5 以下	高温脆性を誘発する
C	10以下	炭化物を形成し、構造を弱める

高純度を活かした産業用途

レアアースと戦略的金属– フッ化物溶融物中でのネオジムまたはジスプロシウムの電解還元。純度が高いため磁気特性の劣化が防止されます。

半導体ターゲット– スパッタリング用の高純度金属（モリブデン、タングステンなど）の溶解。-ドーパント汚染はありません。

核燃料製造– 中性子吸収剤を添加せずに溶融アクチニド合金を含有。

High purity crucibles maintain structural stability at >不活性雰囲気下で 2400 度、蒸気圧が無視できるため、大規模なバッチ全体で一貫した化学的性質が保証されます。

運用上の利点

超低ガス放出（-<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²) supports ultra-high-vacuum processes. Fine, recrystallized grain structure enhances creep resistance, allowing loads of 10 MPa at 2000 °C. Smooth surface finish (Ra ≤ 0.4 µm) aids cleaning and prevents melt adhesion, making them ideal for automated high-throughput lines in aerospace alloy and electronics material plants.

Evaporation material 99.95% 3N5 tantalum crucible for electron beam evaporator

電子ビーム蒸着器用蒸着材料 99.95% 3N5 タンタルるつぼ

Tantalum Parts Processing Plant Customized Different Size Bright Grey tantalum Crucible For Melting Process Parts

タンタル部品加工工場はプロセス部品を溶かすための異なるサイズの明るい灰色のタンタルるつぼをカスタマイズしました

Customized R05200 Ta 99.95% Pure Polished Tantalum Crucible tantalum carbide per kg price

カスタマイズされた R05200 Ta 99.95% 純粋な研磨タンタルるつぼタンタルカーバイド 1 kg あたりの価格

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