説明
技術的なパラメーター
タンタルスパッタリングターゲット関連紹介
タンタルスパッタリングターゲットは、圧力処理によって得られるタンタルシートであり、化学純度が高く、粒径が小さく、再結晶構造が良好で、3軸の一貫性があります。主に光ファイバー、半導体チップ、集積回路のスパッタリング蒸着コーティングに使用されます。タンタルターゲットは、カソードスパッタリングコーティング、高真空吸収活性材料などに使用できます。薄膜技術の重要な材料です。
タンタルターゲットの関連パラメータ
| 材料 | タンタル合金材料 |
| 純度 | 99.9%-99.999%、3N、3N5、4N、5Nなど |
| サイズ | D50.8x3mm、1-10mm、D3x3mm、2インチ、3インチ、またはリクエストに応じて |
| 色 | ホワイトカラー |
| 形 | ペレット、顆粒、平面/円形/プレート/回転/棒、ご要望に応じて。 |
| 表面 | 研磨された表面 |
| Ta密度 | 16.65g/cm3 |
| Ta融点 | 2996度 |
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