タンタルスパッタリングターゲットの研磨

タンタルターゲットの製造工程
ホットプレスおよび焼結工程：原材料→前処理→金型投入→ホットプレスおよび焼結→機械加工→（結合）→検査/欠陥検出→洗浄および梱包→輸送

タンタルターゲットの仕様
直径: D25.4mm、D50mm、D50.8mm、D60mm、D76.2mm、D80mm、D101.6mm、D100mmまたはカスタマイズ
厚さ: 3mm、4mm、5mm、6mm、6.35mm 銅バックプレーンにもバインド可能

タンタルターゲットの製造方法
当社では通常、真空溶解法または熱間静水圧プレス法 (HIP) でタンタル ターゲットを製造しています。当社では、お客様の特定のアプリケーション要件を満たす製品を製造するために適切な製造プロセスを選択します。

タンタルターゲットの応用
薄膜光学コーティング、反射防止コーティング、半導体電子コーティング、LCD、薄膜太陽エネルギーなどに広く使用されています。

パッキング：
1. 防水紙で包む
2. プチプチで包み、合板の箱に入れる
3. 密封して固定する
4. 顧客の要求に応じて梱包します。

さまざまな配送方法をご提供します:
1. 航空貨物
2. 海上輸送
3. エクスプレス: DHL、FedEx、EMS、UPS、SF-Express など。
4. 商品が貨物で引き取られた後、すぐに追跡番号をお送りし、商品が届くまで追跡情報を確認し続けます。

当社の製品は、希土類、磁性材料、鉄鋼、機械、冶金、ガラス、石油化学、国防研究、航空宇宙、真空コーティング業界で広く使用されています。各製品の原材料と補助材料の成分と性能を厳密にテストします。製品加工中に、さまざまな機械的、スペクトル分析、非破壊検査測定も実施し、製品が生産から製造、プロセステスト、完成品検査、アフターサービスまでの完全な品質保証システムを備えていることを確認し、工場製品の品質を厳密に保証します。