半導体フィールドでのタンタルターゲットの適用
半導体産業では、金属タンタル（TA）は現在、主に物理蒸気堆積（PVD）によってバリア層を形成するための標的材料として使用されています。半導体技術の開発により、非常に大規模な統合回路製造技術が最前線になりました。タンタルターゲット半導体種子およびその他の半導体材料の調製に使用できます。
ZHENAN TANTALUMターゲット製品の詳細パラメーターテーブル表示
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学年 |
3N、3N5、4N、TA 99.99％min |
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穀物サイズ |
ASTM 4以下 |
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表面仕上げ |
16RMS Max。またはra 0。4（rms64以上） |
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平坦さ |
{{0}}}。1mmまたは0.15％max |
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許容範囲 |
+/-0。010 "すべての次元で |
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Zhenan Tantalumターゲット製品の詳細画像ディスプレイ
Zhenan Quality Service
1.生産プロセス中にすべての商品が厳格な検査を受けていることを確認してください
2。すべての商品は、包装前に厳密に検査する必要があります。
3.商品の各バッチは、出荷前に再検討されます。
ZhenanについてのFAQ
Q：どのような支払い方法が受け入れられますか？
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Q：サンプルはどうですか？無料料金ですか、それとも追加料金ですか？
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Q：貨物の品質を制御および保証する方法は？
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