高密度TAターゲット

高密度TAターゲット

寸法:描画またはサンプルによる
標準:ASTM B 708/365
処理方法:CNC加工
表面状態:地面または磨かれています
アプリケーション:半導体および光学コーティング産業用
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説明
技術的なパラメーター
Zhenan Tantalumターゲットの溶接と機械加工

 

溶接品質:間の溶接品質タンタルターゲットまた、バッキングプレートは、ターゲットの全体的なパフォーマンスとサービスライフに重要な影響を及ぼします。通常、ろう付けまたは拡散溶接は溶接に使用され、溶接温度、時間、圧力などのパラメーターを溶接プロセス中に厳密に制御する必要があります。
加工精度:ターゲットは、必要なサイズと形状を達成するために正確に機械加工する必要があります。機械加工の精度は、ターゲットの表面の平坦性、表面品質、スパッタリング性能を確保するために、0。1mmの下に制御する必要があります。
変形を防ぐ:サイズが大きいターゲットの場合、変形およびその他の問題は機械加工中に発生する傾向があります。したがって、変形を軽減し、加工精度を改善するために、大規模な機械加工旋盤や機械加工センター機器、および合理的な備品とプロセスパラメーターなど、機械加工プロセス中に適切な対策を講じる必要があります。

 

Zhenan High Purity Tantalumターゲット製品の詳細パラメーターテーブル

 

名前

シンボル

純度

状態

通常のサイズ

タンタル

ta

3N/3N5/4N/4N5/5N

マルチアークターゲット

直径<1000mm;Thickness>1mm

3N/3N5/4N/4N5/5N

長方形のターゲット

長さ、幅、厚さは制限されていません、
長方形/シート/ステップ(長さを漁獲することができます)

4N/4N5

ペレット

φ3*3mm、φ6*6mm、3-10 mm(最小注文100g)
より多くのサイズをカスタマイズできます

2N8

粉

φ3*3mm、φ6*6mm、3-10 mm(最小注文100g)
より多くのサイズをカスタマイズできます

3N/3N5

NIV7

必要に応じてサイズをカスタマイズできます

3N/3N5/4N

nicr

必要に応じてサイズをカスタマイズできます

 

Zhenanラウンドタンタルターゲット製品サンプルディスプレイ画像
High Purity ta Sputtering Target
純粋なTAメタルスパッタリングターゲット
High Purity Tantalum Sputtering Target
純粋なタンタル金属スパッタリングターゲット
なぜ私たちを選ぶのか

 

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ZhenanについてのFAQ

 

Q:価格は交渉可能ですか?

A:もちろん、質問がある場合、または市場を拡大したい場合は、お気軽にお問い合わせください。最良のサポートを提供することにコミットしています。

Q:無料のサンプルを提供できますか?

A:はい、無料のサンプルを喜んで提供します。サンプルリクエストの詳細については、お気軽にお問い合わせください。

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